ZIPComsol等离子体仿真与MPCVD装置模拟：H2放电低气压下MPCVD沉积刻蚀过程的数值研究,等离子体仿真技术在MPCVD装置与H2放电环境下的应用及沉积刻蚀研究,comsol 等离子体仿真 mpc 308.23KB

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Comsol等离子体仿真与MPCVD装置模拟：H2放电低气压下MPCVD沉积刻蚀过程的数值研究,等离子体仿真技术在MPCVD装置与H2放电环境下的应用及沉积刻蚀研究,comsol 等离子体仿真 mpcvd装置仿真，H2放电低气压mpcvd放电，等离子体沉积刻蚀仿真 ,comsol; 等离子体仿真; MPCVD装置仿真; H2放电; 低气压MPCVD放电; 等离子体沉积刻蚀仿真,Comsol等离子体仿真技术：MPCVD装置及H2放电低气压仿真研究
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fc0 sc0 ls0 ws0">压环境下以及等离子体沉积刻蚀等方面的仿真<span class="ff4">。</span>然而<span class="ff3">，</span>这只是个开始<span class="ff3">，</span>未来还有更多的可能性等待我</div></div><div class="pi" data-data='{"ctm":[1.568627,0.000000,0.000000,1.568627,0.000000,0.000000]}'></div></div>
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